佐々木宗生

佐々木　宗生（ささき　むねお）

所属 滋賀県工業技術総合センター　機能材料担当
専門分野 機能性薄膜、表面処理、表面改質、表面分析
技術支援 ・薄膜作製技術・評価技術について
・各種材料の表面分析・表面状態評価について
・電子顕微鏡による観察・分析について
・放射光による材料創製技術について
等々

研究

薄膜技術の電子部材への応用化研究 ～有機EL用ハイガスバリア膜の開発～

概要 現在ガスバリア膜が最も利用されている食品関連分野では、SiOx やAl2O3 などの酸化物薄膜が利用されている。有機EL 素子では、食品関連分野で用いられているガスバリア膜の1/100 以下のバリア性が必要となる。最近の研究では、SiON や無機有機複合膜などのハイガスバリア膜が開発されている。本研究では、Si 系およびAl 系酸化物を高周波マグネトロンスパッタリング法により作製することにより、有機EL 用ハイガスバリア膜を開発することを検討した。基材フィルムにはPET（厚さ25μm）を用い、Si とAl をターゲットに用いて成膜を行った。
実績

薄膜による新素材開発に関する研究－薄膜技術を用いたものづくりモデル研究開発－

概要 高硬度・高強度材料のひとつである、β-C3N4 を作製するために、膜中の窒素と炭素の結合を制御する試みを行った。遷移金属を膜中に導入することにより、膜中のβ-C3N4 型の結合を増加させる。成膜後の処理として、熱処理と放射光照射処理を行った。熱処理は様々な薄膜材料の開発にも用いられているが、放射光照射は酸化物薄膜での効果と窒化炭素膜への効果から、有効な処理法として検討した。
実績 ものづくり試作開発支援センター事業の成果として、県内企業へ高度表面処理技術の技術指導を行いました。
本研究で得られた技術により、酸化物透明導電膜の作製に関するNEDO地域コンソーシアムに採用されました。

液晶ディスプレイの高性能化に関する研究

概要 平成11年度から地域における産業界と大学、試験研究機関の産学官連携プロジェク トとして、新エネルギー・産業技術総合開発機構（NEDO）ベンチャー支援型地域コンソーシアム研究開発事業を行ってきました。この研究事例では滋賀県及 び近畿地域に集積している液晶ディスプレイ関連産業に着目し、液晶ディスプレイの発色に用いられるカラ－フィルタ－に関連する研究開発を行いました。透明導電膜を多層化することにより、低温で現在実用化されている透明電極と同等以上のカラーフィルター用透明電極を作製することに成功しました。
実績 液晶用透明導電膜の作製技術として、県内企業等へ技術指導を行いました。
・クロム遮光層を有するカラーフィルターガラス基板の再生方法(特開2001-091730)
・樹脂遮光層を有するカラーフィルターガラス基板の再生方法(特開2001-091731)
・カラーフィルターの製造方法(特開2002-350834)
・透明導電膜積層基板の製造方法(特開2002-343151)
・カラーフィルター用ガラスフィルター基板の再生方法(特開2002-267827)

放射光表面励起反応を用いた新素材創製の研究

概要 インジウム・スズ酸化物（ITO）薄膜への放射光（SR）照射効果について研究を行った。ホール測定の結果、ITO薄膜はSR照射により比抵抗が約100分の1となり、成膜時に基板温度を高温にした薄膜と同程度の電気特性を有することが可能となることがった。熱処理を行った試料との比較では、結晶構造の変化、電気特性の変化に違いがあることが分かった。特に、ホール移動度は熱処理と異なり、照射により減少することがなく、照射量に伴い、増加することが分かった。
実績 放射光照射による低抵抗ITO薄膜の低温作製技術を開発しました
・Effects of synchrotron radiation irradiation on tin-doped indium oxide thin film prepared by rf magnetron sputtering, REVIEW OF SCIENTIFIC INSTRUMENTS, Vol. 73, No. 3, 1384-1387 (2002)
・シンクロトロン放射光による新機能膜の創製とその応用, 工業材料 Vol. 49 No. 9 (2001) 97-101
・テクノネットワーク, Vol. 77, 2004年2月号, p6-7